انتقل إلى المحتوى

ملف:Photolithography etching process.svg

محتويات الصفحة غير مدعومة بلغات أخرى.
من ويكيبيديا، الموسوعة الحرة

الملف الأصلي ‏(ملف SVG، أبعاده 512 × 2٬560 بكسل، حجم الملف: 8 كيلوبايت)

ترجم هذه الصورة إلى .
ترجِم هذا الملفَّ يحتوي الملفُّ الشُّعاعي هذا على نصٍّ مُضمَّن يُمكِن ترجمته إِلى العربيَّة باستخدام مُحرر صور شعاعيَّةٍ أو مُحررٍ نصِّيٍّ، لمزيدٍ من المعلومات، راجع: هذه الصَّفحة.
 
W3C-validity not checked.

ملخص

الوصف
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale.
المصدر عمل شخصي
المؤلف Cmglee
إصدارات أخرى
  • الألمانية .svg
    الألمانية .svg
  • الإنجليزية .svg
    الإنجليزية .svg
  • الروسية .svg
    الروسية .svg
أَعمالٌ مُشتقَّة مِن هذا الملفِّ:  Photolithography etching process (DE).svg

ترخيص

أنا، صاحب حقوق التأليف والنشر لهذا العمل، أنشر هذا العمل تحت الرخص التالية:
w:ar:مشاع إبداعي
نسب العمل إلى مُؤَلِّفه الإلزام بترخيص المُشتقات بالمثل
هذا الملفُّ مُرخَّص بموجب رخصة المشاع الإبداعي نسبة المُصنَّف إِلى مُؤَلِّفه - المشاركة بالمثل 3.0 العامة
يحقُّ لك:
  • مشاركة العمل – نسخ العمل وتوزيعه وبثُّه
  • إعادة إنتاج العمل – تعديل العمل
حسب الشروط التالية:
  • نسب العمل إلى مُؤَلِّفه – يلزم نسب العمل إلى مُؤَلِّفه بشكل مناسب وتوفير رابط للرخصة وتحديد ما إذا أجريت تغييرات. بالإمكان القيام بذلك بأية طريقة معقولة، ولكن ليس بأية طريقة تشير إلى أن المرخِّص يوافقك على الاستعمال.
  • الإلزام بترخيص المُشتقات بالمثل – إذا أعدت إنتاج المواد أو غيرت فيها، فيلزم أن تنشر مساهماتك المُشتقَّة عن الأصل تحت ترخيص الأصل نفسه أو تحت ترخيص مُتوافِقٍ معه.
GNU head يسمح نسخ وتوزيع و/أو تعديل هذه الوثيقة تحت شروط رخصة جنو للوثائق الحرة، الإصدار 1.2 أو أي إصدار لاحق تنشره مؤسسة البرمجيات الحرة؛ دون أقسام ثابتة ودون نصوص أغلفة أمامية ودون نصوص أغلفة خلفية. نسخة من الرخصة تم تضمينها في القسم المسمى GNU Free Documentation License.
لك أن تختار الرخصة التي تناسبك.

الشروحات

أضف شرحاً من سطر واحد لما يُمثِّله هذا الملف

العناصر المصورة في هذا الملف

يُصوِّر

تاريخ الملف

اضغط على زمن/تاريخ لرؤية الملف كما بدا في هذا الزمن.

زمن/تاريخصورة مصغرةالأبعادمستخدمتعليق
حالي08:27، 17 أبريل 2022تصغير للنسخة بتاريخ 08:27، 17 أبريل 2022512 × 2٬560 (8 كيلوبايت)DjibounFile uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr.
13:18، 20 يونيو 2020تصغير للنسخة بتاريخ 13:18، 20 يونيو 2020512 × 2٬560 (5 كيلوبايت)Mega deppaReverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC)
13:16، 20 يونيو 2020تصغير للنسخة بتاريخ 13:16، 20 يونيو 2020512 × 2٬560 (8 كيلوبايت)Mega deppaFile uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja.
16:52، 9 أكتوبر 2011تصغير للنسخة بتاريخ 16:52، 9 أكتوبر 2011512 × 2٬560 (5 كيلوبايت)CmgleeAlign text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg.
22:03، 30 سبتمبر 2011تصغير للنسخة بتاريخ 22:03، 30 سبتمبر 2011512 × 2٬560 (5 كيلوبايت)CmgleeMerge develop and remove exposed photoresist.
22:46، 29 سبتمبر 2011تصغير للنسخة بتاريخ 22:46، 29 سبتمبر 2011512 × 2٬926 (5 كيلوبايت)CmgleeFix text alignment.
22:39، 29 سبتمبر 2011تصغير للنسخة بتاريخ 22:39، 29 سبتمبر 2011512 × 2٬926 (5 كيلوبايت)CmgleeFix text alignment.
22:37، 29 سبتمبر 2011تصغير للنسخة بتاريخ 22:37، 29 سبتمبر 2011512 × 2٬926 (5 كيلوبايت)CmgleeFix text alignment.
22:30، 29 سبتمبر 2011تصغير للنسخة بتاريخ 22:30، 29 سبتمبر 2011512 × 3٬413 (5 كيلوبايت)Cmglee{{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date

الصفحة التالية تستخدم هذا الملف:

الاستخدام العالمي للملف

الويكيات الأخرى التالية تستخدم هذا الملف:

بيانات وصفية

هذا الملف يحتوي على معلومات إضافية، غالبا ما تكون أضيفت من قبل الكاميرا الرقمية أو الماسح الضوئي المستخدم في إنشاء الملف.

إذا كان الملف قد عدل عن حالته الأصلية، فبعض التفاصيل قد لا تعبر عن الملف المعدل.

مجلوبة من «https://ar.wikipedia.org/wiki/ملف:Photolithography_etching_process.svg»